真空鍍膜加工的一些常見問題

隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng)，各種類型的真空鍍膜機(jī)也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就真空鍍膜的一些常見問題來看看造成不均勻的因素有哪些。

對(duì)此，真空鍍膜加工廠家指出，它的運(yùn)作原理其實(shí)很簡(jiǎn)單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機(jī)廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。

真空鍍膜加工問題點(diǎn)

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過有真空機(jī)的存在，要控制好還是不成問題的。